¾çÁöÈ£(¸Å´ÏÁö¸ÕÆ® ¼®»ç 15) ÇлýÀÌ Çѱ¹Àü·«°æ¿µÇÐȸ Ãá°èÇмú´ëȸ¿¡¼ ¿ì¼ö³í¹®»óÀ» ¼ö»óÇÏ¿´´Ù. À̹ø Ãá°èÇÐȸ ½É»ç´ë»ó ³í¹® 15Æí Áß ÇлýÀÌ 1ÀúÀÚÀÎ ³í¹®Àº 12ÆíÀ̾úÀ¸¸ç ÀÌ Áß¿¡¼ °¡Àå ¿ì¼öÇÑ ³í¹®À» ¼±Á¤ÇÏ¿© ¼ö»óÇÏ¿´´Ù.
¾çÁöÈ£ ÇлýÀº “¹Ú°æ¹Î Áöµµ±³¼ö´Ô°ú ºÎ¸ð´Ô²² Å©³ªÅ« °¨»çÀÇ Àλ縦 µå¸°´Ù”°í ¼Ò°¨À» ¹àÇû´Ù. ÀÌ¾î “ºÎÁ·ÇÑ ¿¬±¸¿¡ Å« »óÀ» ÁֽŠÇѱ¹Àü·«°æ¿µÇÐȸ¿¡ °¨»çÇÏ°í, ĪÂùº¸´Ù´Â ÁúÃ¥À¸·Î ¹Þ¾ÆµéÀÌ°í ¼ö»óÀÌ ºÎ²ô·´Áö ¾ÊÀº ¿¬±¸ÀÚ°¡ µÇµµ·Ï Á¤ÁøÇÏ°Ú´Ù”°í ÇÏ¿´´Ù.
¼ö»ó ³í¹®Àº ‘¼º°ú Çǵå¹é ¸ðÇü°ú °æ¿µÁøÀÇ °ú°Å ÁöÇ⼺ÀÌ ¹ÝµµÃ¼ ±â¾÷ÀÇ R&D ÅõÀÚ¿¡ ¹ÌÄ¡´Â ¿µÇâ (Independent and Interactive Effects of Performance Feedback and Management’s Past Temporal Focus on Firms’ R&D Intensity in Semiconductor Industry)’À¸·Î ¼º°ú Çǵå¹é ¸ðÇüÀ» Áß½ÉÀ¸·Î ÃÖ°í °æ¿µÁøÀÇ ÀÎÁöÀû Ư¼ºÀÌ ¹ÝµµÃ¼ ±â¾÷ÀÇ R&D ÅõÀÚ¿¡ ¹ÌÄ¡´Â ¿µÇâÀ» ½ÇÁõÀûÀ¸·Î ºÐ¼®ÇÏ¿´´Ù.
ÀÌ ³í¹®ÀÇ µÎ ÃàÀ̶ó°í ÇÒ ¼ö ÀÖ´Â ¼º°ú Çǵå¹é ¸ðÇü°ú °æ¿µÁøÀÇ ÀÎÁöÀû Ư¼ºÀº ¸Å´ÏÁö¸ÕÆ® ¹× Àü·«°æ¿µÀÇ ÁÖ¿äÇÑ ºÐ¾ß·Î ÃÖ±Ù °æ¿µÇÐ ¿¬±¸¿¡¼ °¢±¤¹Þ°í ÀÖ´Ù. ¼º°ú Çǵå¹é ¸ðÇü¿¡ µû¸£¸é ±â¾÷Àº °ú°Å ¼º°ú ¹× »ê¾÷ ³» Ÿ ±â¾÷ÀÇ ¼º°ú¸¦ ¹ÙÅÁÀ¸·Î ¿¸Á ¼öÁØÀ» ¼³Á¤ÇÏ°í ¼º°ú°¡ À̺¸´Ù ³·¾ÆÁú °æ¿ì ¹®Á¦ ÇØ°áÇü Ž»ö°ú °æ¿µÁøÀÇ À§Çè °¨¼ö ¼ºÇâÀÌ Áõ°¡ÇÏ°Ô µÈ´Ù. ¶ÇÇÑ ³í¹®¿¡¼ °æ¿µÁøÀÇ ÀÎÁöÀû Ư¼ºÀ¸·Î ³ªÅ¸³ª´Â °ú°Å ÁöÇ⼺Àº ±â¾÷ °æ¿µÁøÀÌ °ú°Å¿¡ ¹ß»ýÇÑ °æÇè¿¡ ¾ó¸¶³ª ÁÖÀǸ¦ ±â¿ïÀÌ´Â Áö¿Í °ü·ÃµÈ ½É¸®ÇÐÀû °³³äÀÌ´Ù.
À̹ø ¿¬±¸´Â À§¿¡¼ ¾ð±ÞÇÑ ¼º°ú Çǵå¹é ¸ðÇü°ú °æ¿µÁøÀÇ ÀÎÁöÀÌ·ÐÀ» °áÇÕÇÑ ÃÖÃÊÀÇ ¿¬±¸ Áß Çϳª¶ó´Â Çй®Àû ÀÇÀÇ°¡ ÀÖÀ¸¸ç µ¿½Ã¿¡ ±â¾÷ÀÇ ÇнÀ ¹× ÀûÀÀ°ú Çõ½Å¿¡ ¿µÇâÀ» ÁÙ ¼ö ÀÖ´Â °æ¿µÁøÀÇ ÀÎÁöÀû Ư¼ºÀ» ¹ß°ßÇÔÀ¸·Î½á °æ¿µÁøÀÇ ¼±¹ß °úÁ¤¿¡ µµ¿òÀ» ÁÙ ¼ö ÀÖ´Ù´Â Á¡¿¡¼ Å« ½Ç¹«Àû Àǹ̸¦ °¡Áø´Ù.
ÆäÀÌÁö ·ÎµùÁß ...